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一种多角度入射单发椭偏测量方法

一种多角度入射单发椭偏测量方法

专利申请号:CN201510235765.8

公 开 号:CN105181604A

发 明 人:马靖 许灿华 裴丽燕 邱鑫茂 施洋 

代 理 人:蔡学俊

代理机构:福州元创专利商标代理有限公司 35100

专利类型:发明专利

申 请 日:2015122300

公 开 日:20150511

专利主分类号:G01N21/21(2006.01)I

摘      要:本发明涉及一种多角度入射单发椭偏测量方法,首先提供激光束聚焦柱透镜、样品、准直柱透镜、1/4波片、晶体斜劈、检偏器、成像屏、面阵相机以及计算机,再通过双折射晶体斜劈的偏光干涉将光偏振态的变化转换成一维条纹光斑的移动,其次采取合理光路设计将多角度入射对应的条纹分布在另外一个维度上,最后利用图像技术对光斑内的多组条纹进行定位和处理,在单次测量中即可获得多组偏振态信息。本发明的测试方法无机械旋转或光学调制器件,测量速度只受限于相机采集速度,而且测量结果与光强波动无关,可以极大减小系统的测量误差,提高测量的稳定性。

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