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一种平面加工的磁流变-射流电沉积方法及其装置

一种平面加工的磁流变-射流电沉积方法及其装置

专利申请号:CN201811175708.5

公 开 号:CN109112593A

发 明 人:范晖 赵阳培 王善奎 郭华锋 邹伟 王林 

专利类型:发明专利

申 请 日:2019010100

公 开 日:20181010

专利主分类号:C25D5/08

摘      要:发明公开了一种简单易行的磁流变‑射流电沉积复合加工装置,提供了数控平台的选择范围、设计简单的工作液循环系统、组合夹具,工作液回收装置,磁场控制装置,抛光轮及其传动装置固定装置,并制定了简单易行的操作原则和方法。

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